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退火炉
退火炉
退火炉

  退火炉是一种用于制造半导体器件的工艺,包括加热若干半导体晶片以影响其电性能。热处理是为不同的效果而设计的?梢约尤染约し⒉粼蛹,将薄膜转换成薄膜或薄膜转换成晶片衬底界面,从而可以改变密集沉积的薄膜,可以恢复生长的薄膜,可以修改注入的损坏,可以移动掺杂剂或将掺杂剂从衬底上转移。M薄膜到另一薄膜或从薄膜到晶片衬底。

  退火炉可以集成到其他炉处理步骤中,例如氧化,或者可以自行处理。退火炉是为半导体晶片加热而设计的设备。退火炉是一种具有节能结构和纤维结构的节能周期运行炉,节电60%。

退火炉的产品特点:

1、无噪声,无环境污染。

2、蓄热性小,热量流失少。

3、控温精度高,炉温均匀度高。

4、自动化程度高,操作简单。

5、可采用PID编程设定,全自动运行。

6、密封性好,使用寿命久。

 应用于化工、石油、食品、冶金、机械、轻工、电力、船舶、造纸、矿山、集中供热等工业部门。随着社会生产力的发展,其在各行业中的应用越来越广。


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